프랙틸리아, ‘프랙틸리아 챌린지’ 프로그램 조건 없이 제공

프랙틸리아 챌린지 프로그램은 BKM(반도체업계에서 주어진 프로세스를 얼마나 잘 수행하는지에 대한 평가 기준)을 사용해 SEM 장비로 실험에 참여할 의향이 있는 칩 제조사를 모집한다. 칩 제조사가 SEM 이미지를 보내면, 프랙틸리아는 해당 이미지들을 FAME으로 분석해 SEM 장비 성능, SEM 장비간 매칭 가능성 및 처리량 개선에 대해 기술한 맞춤형 보고서를 제공한다. FAME은 첨단 노드 공정에서 패터닝 오류의 주된 원인인 CD(최소 선폭)와 다양한 스토캐스틱 효과를 고도로 정확하고 정밀하게 측정할 수 있는 팹 솔루션이다.

프랙틸리아 챌린지는 또한 동일한 세대와 유형의 SEM장비뿐 아니라 다른 세대 혹은 다른 회사의SEM 장비들 간에도 매칭을 가능하게 한다. 이는 라인 에지 거칠기(LER), 라인 폭 거칠기(LWR), 국부적 CD 균일성(LCDU) 등을 포함한 수많은 스토캐스틱 측정으로 실현 가능했다.

SEM 측정 정밀도와 안정성을 높임으로써 공정 수율 향상, 특정 레이어에 할당된 전용 SEM 의존성 감소로 전반적인 장비 효율 증대, 새로운 디바이스 노드 측정에 이전 세대의 SEM 재사용으로 새로운 장비에 대한 구입 비용 절감을 기대할 수 있다. FAME은 측정 정확도나 정밀도에 대한 영향 없이 SEM 장비 처리량을 향상시킨다. 따라서 동일한 측정에 대해 더 적은 수의 SEM을 사용할 수 있으며 고객의 비용과 클린룸 공간 절약이 가능하다.

에드 샤리에 프랙틸리아 사장 겸 CEO는 “프랙틸리아는 독창적인 접근법을 통해 비교할 수 없이 높은 수준의 매칭 결과를 달성한다”며 “최근 다양한 고객들과 함께 여러 SEM 장비와 다른 세대간 SEM 장비간 매칭에서 0.02nm LWR 정밀도를 달성하는 능력을 입증 및 시연했다”고 말했다.

또한 “프랙틸리아 챌린지는 FAME 제품이 어떻게 칩 제조사의 기존 SEM 장비 환경을 활용하여 SEM 장비간 매칭을 개선하고, 그와 동시에 SEM 장비 처리량을 증가시키는지 반도체 업계에 직접 입증할 수 있는 기회가 될 것”이라고 덧붙였다. 

크리스 맥 프랙틸리아 CTO는 “SEM 장비 간 0.02nm 미만의 LWR 매칭을 달성하려면 새로운 패러다임이 필요하다”며 “전산 계측을 통해 SEM의 오차를 측정하고 제거함으로써 이를 실현하고 있다. 우리는 웨이퍼를 찍은 이미지가 아닌 실제 웨이퍼 위에 무엇이 있는지를 측정한다”고 말했다.

프랙틸리아는 현재 Fractilia Challenge 선착순 참여 신청을 접수하고 있다. 프로그램 참여 문의는 이메일로 가능하며, 프랙틸리아의 FAME 솔루션에 대한 자세한 내용은 홈페이지에서 확인할 수 있다.

이윤혜 기자 dbspvpt@datanews.co.kr